誘導結合型プラズマ発生用アンテナ装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：前田均 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-192572
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085196
出願日： 2000年06月27日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】この発明の目的は、大面積の試料を加工できる大仕掛のプラズマを発生するためのアンテナ装置を提供することにある。【解決手段】上記のような目的を達成するためになされたこの発明は、大仕掛のプラズマを生成するためのプラズマ発生装置のためのアンテナ装置において、高周波電源と、該高周波電源から高周波電力を供給される第1のアンテナと、前記高周波電源から高周波電力を供給されて前記第1のアンテナに並列接続されるが、該第1のアンテナとの間で共振状態を保つ第2のアンテナとを含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

大仕掛のプラズマを生成するためのプラズマ発生装置のためのアンテナ装置において、高周波電源と、該高周波電源から高周波電力を供給される第1のアンテナと、前記高周波電源から高周波電力を供給されて前記第1のアンテナに並列接続されるが、該第1のアンテナとの間で共振状態を保つ第2のアンテナとを含むことを特徴とするプラズマ発生装置のためのアンテナ装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (5件)：

H05H 1/46 L , H05H 1/46 R , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (6件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-202840 出願人：国際電気株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-060448 出願人：株式会社日立製作所
プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-013981 出願人：東京エレクトロン株式会社

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