特許
J-GLOBAL ID：200903083841550020

塗布ムラ検査方法およびそのプログラム

発明者：
三橋 光幸

三橋 光幸 について

, 
羽廣 賢一

羽廣 賢一 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-147731
公開番号（公開出願番号）：特開2006-322871
出願日： 2005年05月20日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】大面積の全基板上において反射光強度を精度良く測定し、この反射光強度から透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響等の外乱要因を除去すると共に塗布ムラの可能性のある領域(ムラ候補領域)を精度良く推定し、透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。【解決手段】透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域の反射光強度を測定し、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成し、該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出して塗布ムラを抽出する塗布ムラ検査方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材上に塗布された透明樹脂被膜の塗布ムラを検査する方法であって、透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に光を照射してその反射光強度を小領域毎に測定する反射光強度測定工程と、 塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成する包絡画像データ生成工程と 該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出することにより塗布ムラを抽出するムラ抽出工程と、 を備えることを特徴とする塗布ムラ検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/892 ,  G01B 11/06 ,  G06T 1/00
FI (3件)：
G01N21/892 A ,  G01B11/06 H ,  G06T1/00 300
Fターム (48件)：
2F065AA30 ,  2F065AA49 ,  2F065AA61 ,  2F065BB17 ,  2F065BB22 ,  2F065CC31 ,  2F065FF04 ,  2F065FF42 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG22 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL22 ,  2F065QQ15 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ42 ,  2G051AA90 ,  2G051AB20 ,  2G051BA01 ,  2G051BA04 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA05 ,  2G051EA23 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  2G051EC05 ,  2G051ED04 ,  5B057AA01 ,  5B057BA02 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB02 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE03 ,  5B057CE06 ,  5B057CH09 ,  5B057DA04 ,  5B057DA08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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