洗浄システムから排出される排水の処理方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：長谷照一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000749
公開番号（公開出願番号）：特開平7-195091
出願日： 1994年01月10日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】フロン化合物による洗浄に代わる水系洗浄剤による洗浄システムからの排水の好適な処理方法を提供する。【構成】各種機械、機器、これらの構成部材等各種部品を水系洗浄剤にて洗浄する洗浄工程、同洗浄工程にて洗浄処理された各種部品を水で仕上げ洗浄する仕上洗浄工程の両工程を有する洗浄システムから排出される排水の処理方法であり、前記仕上洗浄工程からの排水を分解処理した後、活性炭処理およびイオン交換処理することを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

各種機械、機器、これらの構成部材等各種部品を水系洗浄剤にて洗浄する洗浄工程、および同洗浄処理工程にて洗浄処理された各種部品を水で仕上げ洗浄する仕上洗浄工程の両工程を有する洗浄システムから排出される排水の処理方法であり、前記洗浄工程から排出され油性エマルジョンの分離処理された排水処理水を、酸化分解処理した後、活性炭処理およびイオン交換処理することを特徴とする洗浄システムから排出される排水の処理方法。

IPC (10件)：

C02F 1/78 ZAB , B08B 3/14 , C02F 1/28 ZAB , C02F 1/42 ZAB , C02F 1/72 ZAB , C02F 1/72 101 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭49-097451
特開平3-196890
プリント基板洗浄希薄排水からの水の回収方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-015943 出願人：オルガノ株式会社

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