特許
J-GLOBAL ID：200903083858717467

水酸アパタイト質膜の形成方法

発明者：
小川 賢治

小川 賢治 について

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大和田 仁

大和田 仁 について

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山下 仁大

山下 仁大 について


出願人/特許権者：
秩父小野田株式会社

秩父小野田株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259193
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101146
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 表面抵抗が低く、センサーとして用いることが可能な水酸アパタイト質膜の形成法を提供する【構成】 ターゲット材としてリン酸カルシウム質を、スパッタガスとして不活性ガスに炭酸ガスを混入したものを用い、スパッタリング法によって基材上に膜を形成することにより、従来の方法によって形成されたアパタイト質膜と比較して表面抵抗が低く、かつ炭酸ガス分圧に対する応答性の優れた水酸アパタイト質膜を形成することを可能とした。
請求項（抜粋）：
ターゲット材としてリン酸カルシウム質を、スパッタガスとして不活性ガスに炭酸ガスを混入したものを用い、スパッタリング法によって基材上に膜を形成することを特徴とする水酸アパタイト質膜の形成方法
IPC (6件)：
G01N 27/04 ,  C01B 25/32 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/58 ,  G01N 27/12
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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