半導体露光用エキシマレーザ装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-138383
公開番号（公開出願番号）：特開2000-332322
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】発振波長を狭帯域化するために回折格子を用いた半導体露光用エキシマレーザ装置において、出力鏡の形状を工夫することにより発振波長をより狭帯域化する。【解決手段】出力鏡17とリトロー配置の反射型回折格子16とでなる光共振器と、その光共振器中に配置されエキシマガスが封入されたレーザチャンバー11と、その反射型回折格子16とレーザチャンバー11の間に配置されたスリット14とビーム拡大器15とからなり、半導体露光用に用いられるエキシマレーザ装置において、出力鏡17が凹面シリンドリカル鏡よりなる半導体露光用エキシマレーザ装置。

請求項（抜粋）：

出力鏡とリトロー配置の反射型回折格子とでなる光共振器と、該光共振器中に配置されエキシマガスが封入されたレーザチャンバーと、該反射型回折格子と該レーザチャンバーの間に配置されたスリットとビーム拡大器とからなり、半導体露光用に用いられるエキシマレーザ装置において、前記出力鏡が凹面シリンドリカル鏡よりなることを特徴とする半導体露光用エキシマレーザ装置。

IPC (4件)：

H01S 3/08 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (5件)：

H01S 3/08 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 527

Fターム (18件)：

2H097AA03 , 2H097CA08 , 2H097CA13 , 2H097CA17 , 2H097LA10 , 5F046BA03 , 5F046CA04 , 5F046CB03 , 5F046CB10 , 5F046CB22 , 5F072AA06 , 5F072JJ13 , 5F072KK06 , 5F072KK07 , 5F072KK30 , 5F072MM08 , 5F072RR05 , 5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (2件)

露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-260612 出願人：キヤノン株式会社
特開平2-303178

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