露光装置及びデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-260612
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106927
出願日： 1996年10月01日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】レーザーを用いる露光装置において照度むらを軽減すること。【解決手段】露光用の光源であるエキシマレーザーの共振器20において、前側の共振用ミラーであるグレーティングミラー1の表面を光軸方向とH方向に平行な断面(以下、「H断面」と記す)に関して凹面を有するシリンドリカルミラーとし、後側の共振用ミラー9を光軸方向とV方向とに平行な断面(以下、「V断面」と記す)に関して凹面を有するシリンドリカルミラーとすることによりH断面及びV断面の双方に関して安定型共振器を構成し、これによりH方向とV方向の双方でレーザー光の空間的コヒーレンスを小さくする。

請求項（抜粋）：

レーザーからのレーザー光でマスクのパターンを照明することにより該マスクのパターンを介して被露光基板を露光する露光装置において、前記レーザーは、互いに直交する2つの断面の夫々に関して安定型共振器となる共振器を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01S 3/08 , H01S 3/097

FI (3件)：

H01L 21/30 515 B , H01S 3/08 Z , H01S 3/097 Z

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭62-076581
特開平4-018783
特開昭63-178573

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