特許
J-GLOBAL ID:200903083920169668

超純水製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中川 周吉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-223686
公開番号(公開出願番号):特開平11-057417
出願日: 1997年08月20日
公開日(公表日): 1999年03月02日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、濾過前の被濾過水中にオゾンを注入することによりオゾン耐性膜で阻止された微生物を確実に殺菌すると共に、超純水製造工程を一時停止させることなく超純水を生産し、設備管理者による超純水中または濾過水中の微生物の棲息状態の調査を省略して管理コストを低減し、微生物殺菌後の廃液処理を省略できる超純水製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】 原水1を一次純水2に濾過処理し、最終濾過工程前の被濾過水中にオゾンを注入してオゾン耐性膜モジュールによる濾過工程を行った後、ユースポイント3の近傍下流側にオゾンを除去する脱酸素,脱オゾン工程を設けて構成したことを特徴とする。
請求項(抜粋):
超純水製造工程の最終濾過工程を精密濾過膜または限外濾過膜を用いて行う際に、濾過前の被濾過水へオゾンを添加して濾過し、濾過後に濾過水中に残存するオゾンまたは酸素を分解または除去することを特徴とする超純水製造方法。
IPC (11件):
B01D 61/18 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78
FI (11件):
B01D 61/18 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 520 B ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 C ,  C02F 1/50 560 E ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/78
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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