特許

J-GLOBAL ID：200903083946656850

ネジキャップおよび処理装置

発明者： 小美野 光明
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-276934
公開番号（公開出願番号）：特開平7-127625
出願日： 1993年11月05日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】【目的】 温度制御に悪影響を与えることなく固定用のネジ等を所望位置に配置可能とすることができ、従来に較べて装置設計における自由度を増大させて、装置の小形化およびメンテナンス性の向上等を図ることのできるネジキャップおよび処理装置を提供する。【構成】 ボルト10のネジ頭11が挿入されたサセプタ12の凹部の内側壁面15には、ネジが形成されており、ネジキャップ1は、ここに螺合され、ボルト10のネジ頭11を覆う如く配設されている。ネジキャップ1の底面に形成されたテーパ部4は、サセプタ12の凹部底面に密着するよう構成されている。

請求項（抜粋）：

所定温度に温度制御される部材を係止するためのネジの頭部を覆う如く配設されるネジキャップであって、前記部材と同等あるいはそれ以上の熱伝導度を有する材料から略円柱状に形成され、周囲に前記ネジの頭部が挿入される前記部材の凹部内側壁に螺合されるネジ部を有し、底部の少なくとも一部がテーパ状に形成されていることを特徴とするネジキャップ。

IPC (3件)：

F16B 37/14 ,  H01L 21/68 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-090404   出願人：東京エレクトロン山梨株式会社
• スパッタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-022580   出願人：株式会社東芝, 日本真空技術株式会社