特許
J-GLOBAL ID：200903083951719194
被覆工作物を製造するための方法、その方法の利用およびそのための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-503479
公開番号（公開出願番号）：特表2002-504061
出願日： 1998年05月27日
公開日（公表日）： 2002年02月05日
要約：
【要約】この方法は、エピタキシに十分な質を備えた層が、大幅に向上した成長率で工作物に被覆されることを特徴とする。このためには、UHV-CVD法またはECR-CVD法の代りに、例えば、PECVD法がDCプラズマ放電によって用いられる。
請求項（抜粋）：
エピタキシに十分な品質を備えた被覆工作物を製造するための方法であって、DC放電を利用してPECVDによって工作物が被覆されることを特徴とする、方法。
IPC (5件)：
C30B 25/02
, C23C 16/505
, C23C 16/511
, C30B 29/52
, H01L 21/205
C30B 25/02 Z
, C23C 16/505
, C23C 16/511
, C30B 29/52
, H01L 21/205
