特許
J-GLOBAL ID：200903083994066763
高純度テレフタル酸の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-212757
公開番号（公開出願番号）：特開平7-069975
出願日： 1993年08月27日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：
【要約】【構成】 粗テレフタル酸を、高温、高圧下、水性媒体に溶解させ、該水溶液を白金族金属触媒の存在下、水素と接触させて精製する高純度テレフタル酸の製造方法において、上記水溶液の酢酸含有量が水に対して1〜30重量%であることを特徴とする高純度テレフタル酸の製造方法。【効果】 以上のように、粗テレフタル酸の水溶液の水素還元精製の際に水性媒体中に特定量の酢酸を存在させることにより着色原因不純物が少なく、色相のよい高純度のテレフタル酸を得ることができる。特に、酢酸溶媒中で酸化し反応母液を分離して得られた粗テレフタル酸を、完全に乾燥させず所望濃度の酢酸を含有した状態とし、これを、水性媒体として水あるいは酢酸水溶液に直接溶解させて水素還元精製することができるので、乾燥工程が簡略化され、かつ、経済的である。
請求項（抜粋）：
粗テレフタル酸を、高温、高圧下、水性媒体に溶解させ、該水溶液を白金族金属触媒の存在下、水素と接触させて精製する高純度テレフタル酸の製造方法において、上記水溶液の酢酸含有量が水に対して1〜30重量%であることを特徴とする高純度テレフタル酸の製造方法。
IPC (3件)：
C07C 63/26
, C07C 51/487
, C07B 61/00 300
