特許
J-GLOBAL ID：200903083996298670
蒸着マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
廣澤 勲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-301293
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129419
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構成で精度よく透明電極等の薄膜形成を可能にする蒸着マスクを提供する。【解決手段】 ガラスや樹脂等の透明な基板12の表面に、ITO等の透明な電極材料により所定のピッチでストライプ状となるように透明電極14を形成するためのストライプ状の開口部20を有する。この開口部20間のマスク構成部分に、マスクのたるみを防止する補強用の補強体26を設ける。
請求項（抜粋）：
基板表面に所定の形状の薄膜を形成するために、上記基板表面を覆う蒸着マスクにおいて、上記マスクの開口部以外の箇所に上記マスクのたるみを防止する補強用の補強体を設けたことを特徴とする蒸着マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/04 A
, H05B 33/10
3K007AB00
, 3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CA02
, 3K007CA05
, 3K007CB01
, 3K007DA00
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 3K007FA03
, 4K029BC09
, 4K029HA03
