特許

J-GLOBAL ID：200903084021396650

デバイスの製造方法、デバイス、電気光学装置及び電子機器

発明者： 古沢 昌宏
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-119965
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318192
出願日： 2002年04月22日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：

【要約】【課題】 製造コストを低減することを可能とするデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】 表示装置の画素部100は、ゲート電極13、ゲート絶縁膜16、チャネル領域18及びソース/ドレイン領域22を含む薄膜トランジスタTと、薄膜トランジスタTに電流を供給するソース線26と、画素電極24を含む。この画素回路100を製造する場合に、まずガラス基板10上にゲート電極13、ゲート絶縁膜16及びチャネル領域18を形成する。チャネル領域18等を形成後のガラス基板10上に、ソース/ドレイン領域22、画素電極24、ソース線26の各々を形成すべき領域の外周を壁で囲むポリイミド膜20を形成する。ポリイミド膜20の壁によって囲まれた領域に液体材料を塗布し、熱処理を加えて成膜することにより、ソース/ドレイン領域22などの要素を形成する。

請求項（抜粋）：

少なくともデバイスの一部の要素を、液体材料を使用して成膜するデバイスの製造方法であって、基板上にデバイスを構成する複数の要素の領域を割り当てる工程と、前記複数の要素の領域のうち少なくとも液体材料を使用する要素の領域の外周を壁で囲む隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記壁によって囲まれた領域に前記液体材料を塗布し、熱処理を加えて成膜する成膜工程と、を含むデバイスの製造方法。

IPC (4件)：

H01L 21/336 ,  G02F 1/1368 ,  H01L 21/288 ,  H01L 29/786

FI (6件)：

G02F 1/1368 ,  H01L 21/288 M ,  H01L 29/78 616 L ,  H01L 29/78 612 C ,  H01L 29/78 616 V ,  H01L 29/78 618 A

Fターム (62件)：

2H092HA04 ,  2H092JA26 ,  2H092KA05 ,  2H092KA07 ,  2H092KA10 ,  2H092KA12 ,  2H092KA18 ,  2H092KB24 ,  2H092MA07 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092RA10 ,  4M104AA01 ,  4M104BB01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD20 ,  4M104DD22 ,  4M104DD37 ,  4M104DD43 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104DD81 ,  4M104GG09 ,  4M104GG10 ,  4M104GG14 ,  4M104GG20 ,  4M104HH14 ,  4M104HH20 ,  5F110AA16 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110CC08 ,  5F110DD02 ,  5F110EE01 ,  5F110EE41 ,  5F110EE44 ,  5F110EE45 ,  5F110EE47 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG41 ,  5F110GG45 ,  5F110HK01 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK31 ,  5F110HL01 ,  5F110HL21 ,  5F110HM17 ,  5F110NN72

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 液晶表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-293212   出願人：株式会社日立製作所