特許
J-GLOBAL ID：200903084027859423
成膜法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-040115
公開番号（公開出願番号）：特開平9-225382
出願日： 1996年02月27日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：
【要約】【課題】 スピンコート法でゾルゲル液を用い、大面積の基板上に10μm程度以下、特に1μm程度以下の均一な光学薄膜を連続的に成膜する成膜法を得る。【解決手段】 基板上にスピンコ-ト法によって薄膜を形成する成膜法において、被膜形成用塗布液として、該被膜形成用塗布液中に酸化物換算で固形分濃度が0.5 〜10重量%でかつレベリング剤の添加量が0.01〜5重量%であって、該被膜形成用塗布液の粘度が0.5 〜10cPになるように調製した溶液を用い、スピンコ-ト成膜した後、乾燥し焼成する成膜法。
請求項（抜粋）：
基板上にスピンコ-ト法によって薄膜を形成する成膜法において、被膜形成用塗布液として、該被膜形成用塗布液中に酸化物換算で固形分濃度が0.5 〜10重量%でかつレベリング剤の添加量が0.01〜5重量%であって、該被膜形成用塗布液の粘度が0.5 〜10cPになるように調製した溶液を用い、スピンコ-ト成膜した後、乾燥し焼成することを特徴とする成膜法。
IPC (6件)：
B05D 1/40
, B05D 7/24 301
, B05D 7/24 303
, B60J 1/00
, C03C 17/25
, C23C 18/02
B05D 1/40 A
, B05D 7/24 301 J
, B05D 7/24 303 E
, B60J 1/00
, C03C 17/25 Z
, C23C 18/02
