特許
J-GLOBAL ID：200903084120840678

処理装置の汚れを除去する方法及び処理装置

発明者：
浅香 浩一

浅香 浩一 について

, 
磧本 栄一

磧本 栄一 について

, 
田上 光広

田上 光広 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-374420
公開番号（公開出願番号）：特開2002-175975
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：
【要約】【課題】 蓋体や排気管に付着した有機物を簡易に除去できる処理装置を提供する。【解決手段】 蓋体60の天井部60aに光触媒である二酸化チタンをコーティングする。ウェハWを昇降するための昇降ピン65の先端部に紫外線を照射可能な照射部69を設ける。また,処理室S内の雰囲気を排気する排気管62の内周面に二酸化チタンをコーティングする。排気管62内にも紫外線を照射可能な照射部80を設ける。照射部69及び照射部80によって,蓋体60の天井部60a及び排気管62内周面に対して紫外線が照射され,二酸化チタンの光触媒作用によって,天井部60a及び排気管62に付着した有機物が分解され,除去される。
請求項（抜粋）：
処理室内で基板を処理する処理装置の汚れを除去する方法であって,前記処理装置には,基板を上方から覆い前記処理室を形成する蓋体が備えられており,前記基板に対向する前記蓋体の上面内側には,光触媒が被覆されており,前記光触媒の被覆されている前記蓋体の上面内側に対し,紫外線を照射することを特徴とする,処理装置の汚れを除去する方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B08B 7/00
FI (2件)：
B08B 7/00 ,  H01L 21/30 567
Fターム (5件)：
3B116AA47 ,  3B116AB51 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  5F046KA10
引用特許：
審査官引用 (1件)

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