特許

J-GLOBAL ID：200903084146724960

流動床式の水処理装置

発明者： 新谷 正明
出願人/特許権者： 日本デバイス工業株式会社
代理人 (1件)： 大島 泰甫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350103
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153894
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】流動床用濾材の浄化能力を向上させる水処理装置を提供する。【解決手段】ろ過槽2の上部において下降流12cが発生する槽壁20部位から水面側に向かって傾斜する濾材滞留防止用の傾斜抵抗板24を設け、濾材5がろ過槽の槽壁近くの滞留部位に向かうのを防ぎ、濾材5を継続的に汚水の循環水流中を浮遊させ、浄化能力を向上させる。

請求項（抜粋）：

ろ過槽下部から曝気装置のエア噴出管により、ろ過槽内の汚水を循環させ、ろ過槽内の汚水に浮遊する流動床用濾材の浄化能力により汚水をろ過する流動床式水処理装置において、前記ろ過槽の上部において下向きの水流が発生する槽壁部位から水面側に向かって傾斜する濾材滞留防止用の傾斜抵抗板が設けられた流動床式水処理装置。

IPC (4件)：

C02F 3/08 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/04 ,  C12M 1/40

FI (4件)：

C02F 3/08 B ,  C12M 1/00 H ,  C12M 1/04 ,  C12M 1/40 Z

Fターム (16件)：

4B029AA02 ,  4B029AA21 ,  4B029DA07 ,  4B029DB11 ,  4B029DC05 ,  4D003AA14 ,  4D003AB02 ,  4D003AB03 ,  4D003AB04 ,  4D003BA01 ,  4D003DA11 ,  4D003DA13 ,  4D003DA19 ,  4D003EA15 ,  4D003EA28 ,  4D003EA30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 連続流動接触排水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-274615   出願人：前澤化成工業株式会社
• 特開昭62-083097