特許

J-GLOBAL ID：200903084167613602

流動層装置

発明者： 財満 泰弘
出願人/特許権者： エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005023454
公開番号（公開出願番号）：WO2006-068165
出願日： 2005年12月21日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

本発明は、医薬品製造工程、化粧品製造工程、食品製造工程、化学品製造工程等における、微粒子を流動層として取り扱う流動層装置において、静電気の影響を抑制する流動層装置及び同装置を用いた静電気の除電方法を提供する。流動層装置は、流動草々地内の微粒子に対してエックス線を照射するエックス線照射装置を備える。

請求項（抜粋）：

流動層容器内の被処理対象の微粒子に対してエックス線を照射するエックス線照射装置を備えたことを特徴とする流動層装置。

IPC (4件)：

B01J 2/16 ,  B01J 8/24 ,  B01J 2/00 ,  B05B 7/04

FI (4件)：

B01J2/16 ,  B01J8/24 ,  B01J2/00 B ,  B05B7/04

Fターム (25件)：

4B035LC16 ,  4B035LE01 ,  4B035LE07 ,  4B035LP26 ,  4B035LP59 ,  4B035LT09 ,  4C076AA61 ,  4C076FF07 ,  4C076GG36 ,  4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB18 ,  4F033QD02 ,  4F033QD14 ,  4G004BA02 ,  4G004KA00 ,  4G004KA05 ,  4G070AA01 ,  4G070AB10 ,  4G070BB32 ,  4G070CA17 ,  4G070CA30 ,  4G070CB10 ,  4G070DA05 ,  4G070DA16

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 流動層装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-190042   出願人：株式会社パウレック