特許
J-GLOBAL ID:200903084182445147
エポキシ化合物製造用触媒およびこれを用いたエポキシ化合物の製造方法と製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-301394
公開番号(公開出願番号):特開2007-105690
出願日: 2005年10月17日
公開日(公表日): 2007年04月26日
要約:
【課題】気相反応下で安定した触媒活性を示し、しかも緩和な反応条件で所望とするエポキシ化合物を得ることできる触媒と該触媒を用いた効率的なエポキシ化合物の製造方法およびこれを実施するための有利な製造装置を提供する。【解決手段】無機担体にモリブデン酸化物を担持したエポキシ化合物製造用触媒。触媒を充填するための触媒充填層と、触媒に接触した原料ガスを滞留させる空間部を備えたエポキシ化合物の製造装置。【選択図】なし
請求項(抜粋):
無機担体にモリブデン酸化物を担持したことを特徴とするエポキシ化合物製造用触媒。
IPC (4件):
B01J 23/28
, B01J 29/035
, C07D 301/08
, C07D 303/04
FI (4件):
B01J23/28 Z
, B01J29/035 Z
, C07D301/08
, C07D303/04
Fターム (22件):
4C048AA01
, 4C048BB02
, 4C048CC01
, 4C048UU05
, 4C048XX02
, 4C048XX05
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA02B
, 4G169BA07B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BC59A
, 4G169BC59B
, 4G169CB09
, 4G169DA06
, 4G169EB18X
, 4G169EB18Y
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB14
, 4G169ZA36
引用特許:
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (9件)
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