高周波トランス

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-337099
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141228
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】本発明は、安定した高周波トランスを得るものである。【解決手段】 1次側コイル23と2次側コイル24を同一平面上の平行結合線路で形成し、残りの1次側コイル30と他方の2次側コイル31を他の同一平面上で構成するものである。

請求項（抜粋）：

1次側コイルと2次側コイルのそれぞれの一部を同一平面上の平行結合線路で形成し、1次側コイルと2次側コイルの残りの他部を他の同一平面上の平行結合線路で形成してなる高周波トランス。

IPC (2件)：

H01F 19/00 , H01G 4/40

FI (2件)：

H01F 19/00 A , H01G 4/40 321 A

Fターム (20件)：

5E070AA11 , 5E070AA16 , 5E070AB10 , 5E070BA01 , 5E070CB03 , 5E070CB13 , 5E070CB17 , 5E070CB20 , 5E070EA01 , 5E082AA01 , 5E082AB03 , 5E082BB10 , 5E082BC40 , 5E082DD08 , 5E082EE35 , 5E082FF05 , 5E082FG08 , 5E082FG26 , 5E082GG10 , 5E082GG28

引用特許：

審査官引用 (6件)

薄膜型表皮効果素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-165157 出願人：大塚サイエンス株式会社, 株式会社写真化学
基板トランス及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-201400 出願人：株式会社日立製作所
積層型バルントランス
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-066589 出願人：株式会社村田製作所

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