特許
J-GLOBAL ID：200903084271913626
露光装置、露光装置の製造方法、およびマイクロデバイスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-157038
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337463
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 たとえばレンズの熱変形に起因して各投影光学モジュールの像面の位置が変動しても良好な重複露光を行う。【解決手段】 複数の投影光学モジュールを有する投影光学系を用いてマスクのパターン像を感光性基板へ投影露光する。感光性基板に対して各投影光学モジュールの像面(Ia〜Ie)を合焦方向へそれぞれ整合させる合焦調整手段を配置している。合焦調整手段は、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を、合焦方向においてほぼ同じ位置に設定する。
請求項（抜粋）：
一部重複露光領域を感光性基板上に形成するために所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを備え、前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ投影露光する露光装置において、前記感光性基板に対して前記各投影光学モジュールの像面を合焦方向へそれぞれ整合させる合焦調整手段を配置し、前記合焦調整手段は、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を前記合焦方向においてほぼ同じ位置に設定すること特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/207 Z
, H01L 21/30 514 C
2H097AA11
, 2H097BA01
, 2H097GB00
, 2H097LA12
, 5F046AA28
, 5F046BA05
, 5F046CB17
, 5F046DA14
, 5F046DB05
