特許
J-GLOBAL ID：200903084322623075
露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-227813
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204116
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板などの被転写物体の温度を制御することにより、たとえば恒温に保ち、パターン転写の倍率誤差を補正することができる露光装置を提供する。【構成】 被転写物体用保持ステージに設置された被転写物体にマスク用保持ステージに設置されたマスクのパターンを転写する露光装置において、マスク、被転写物体、マスク用保持ステージ及び被転写物体用保持ステージの少なくとも一つの温度を検知する温度検知手段と、被転写物体用保存ステージに設けられた複数のペルチェ素子とを備えていて、温度検知手段の検知温度によりペルチェ素子を温度制御する構成にしたことを特徴とする露光装置。
請求項（抜粋）：
被転写物体用保持ステージに設置された被転写物体にマスク用保持ステージに設置されたマスクのパターンを転写する露光装置において、マスク、被転写物体、マスク用保持ステージ及び被転写物体用保持ステージの少なくとも一つの温度を検知する温度検知手段と、複数の領域に分割された被転写物体用保持ステージの夫々の領域の温度を制御する温度制御手段とを設け、温度検知手段と温度制御手段を用いて複数の領域毎に各々制御するように構成したことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 G
