レーザ転写画像形成方法及びレーザ転写画像形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-332605
公開番号（公開出願番号）：特開平9-150582
出願日： 1995年11月28日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】本発明はレーザアブレーションにより高速に微細画像を形成できかつ材料の選択幅の広いレーザ転写画像形成方法及びレーザ転写画像形成装置を提供する。【解決手段】レーザ転写画像形成装置1は、コントローラ8によりX-Yステージ2を介して被転写部材3の転写位置制御を行うとともに、巻き取りローラ5bを駆動して転写シート4の未使用部分を供給ローラ5aから供給させ、レーザ出射部7を駆動制御して、パルス状のレーザ光13を光学系6を介して転写シート4に照射する。転写シート4は、レーザ光13を透過する支持部材10上にアブレーション材料で形成されたアブレーション層11と転写部材で形成された転写部材層12が順次積層されており、レーザ光13はアブレーション層11に集光照射される。アブレーション部材がレーザ光13によりアブレーションすると、転写部材12が被転写部材3方向に飛散して、被転写部材3に転写される。

請求項（抜粋）：

照射されるレーザによるアブレーションを用いて転写材料を被転写部材に転写するレーザ転写画像形成方法であって、照射されるレーザを透過する支持部材上に、照射されるレーザによりアブレーションされるアブレーション材料によりアブレーション層を少なくとも1層形成し、該アブレーション層上に、前記転写材料により転写材料層を形成し、該転写材料層と所定間隔空けて前記被転写部材を配置して、前記支持部材側から前記レーザをアブレーション層に集光して照射することにより、前記アブレーション材料をアブレーションさせて、前記アブレーション層上の前記転写材料層の前記転写材料を前記被転写部材に転写することを特徴とするレーザ転写画像形成方法。

IPC (4件)：

B41M 5/26 , B41J 2/32 , B41J 2/325 , B41M 5/40

FI (4件)：

B41M 5/26 Q , B41J 3/20 109 A , B41J 3/20 117 A , B41M 5/26 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

感熱転写記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-077209 出願人：コニカ株式会社
特開平4-296568
記録部構造及び記録装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-114643 出願人：ソニー株式会社

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