特許
J-GLOBAL ID:200903084349947883
照明光学系、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 芳洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-312994
公開番号(公開出願番号):特開2006-128321
出願日: 2004年10月27日
公開日(公表日): 2006年05月18日
要約:
【課題】 照明光の光量の損失を抑えつつ投影光学系の瞳と光学的に共役な位置またはその近傍における光強度分布、及び照明領域または露光領域における照明ムラを補正することができる照明光学系を提供する。【解決手段】 光源2から射出される極端紫外光で照明領域Mを照明する照明光学系において、前記照明光学系の瞳位置と光学的に共役な位置またはその近傍の位置における光強度分布を補正する第1補正手段16と、前記照明領域Mにおける光強度分布を補正する第2補正手段14とを備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光源から射出される極端紫外光で照明領域を照明する照明光学系において、
前記照明光学系の瞳位置またはその近傍の位置における光強度分布を補正する第1補正手段と、
前記照明領域における光強度分布を補正する第2補正手段と、
を備えることを特徴とする照明光学系。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L21/30 531A
, H01L21/30 518
Fターム (4件):
5F046GA04
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GC03
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
露光方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-157635
出願人:株式会社ニコン
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