特許
J-GLOBAL ID：200903084361515840

金属表面の処理方法

発明者：
鈴木 一孝

鈴木 一孝 について

, 
三浦 由美子

三浦 由美子 について


出願人/特許権者：
地方独立行政法人 岩手県工業技術センター

地方独立行政法人 岩手県工業技術センター について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-091205
公開番号（公開出願番号）：特開2006-274296
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】 金属表面に形成された高分子薄膜の架橋膜形成を容易に行ない、かつ薄膜表面の機能性を維持しつつ薄膜を長時間の使用に耐えるようにする。【解決手段】 分子内に少なくとも1つのアリル基を含有する、トリアジンジチオール誘導体を、金属表面に形成するものであり、トリアジンジチオール誘導体を金属表面に真空蒸着によって付着する蒸着工程(1)と、蒸着工程後に、大気中で紫外線を照射する大気中照射工程(2)と、大気中照射工程後に、真空中で紫外線照射あるいは電子線照射を行なう真空中照射工程(3)とを備えている。蒸着工程(1)では、トリアジンジチオール誘導体に光重合プレポリマーを混合して金属表面に真空蒸着によって付着することを行なう。あるいはまた、トリアジンジチオール誘導体と光重合プレポリマーとを積層して付着することを行なう。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
分子内に少なくとも1つのアリル基を含有する、一般式
IPC (2件)：
C23C 14/12 ,  C23C 26/00
FI (2件)：
C23C14/12 ,  C23C26/00 E
Fターム (18件)：
4K029AA02 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029BD06 ,  4K029BD07 ,  4K029BD11 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029GA00 ,  4K044AB05 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BC01 ,  4K044CA13 ,  4K044CA41
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)

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