特許
J-GLOBAL ID:200903084386344811
感光性ポリマーアレイ合成法
発明者:
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 秀和 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-537413
公開番号(公開出願番号):特表2000-508542
出願日: 1997年04月16日
公開日(公表日): 2000年07月11日
要約:
【要約】本発明は、ポリマー配列のアレイの大規模調製のための新規なプロセスを提供する。ここで各アレイは、複数の異なる、位置的に区別される、公知のモノマー配列を有するポリマー配列を含む。本発明の方法は、高度なスループットのプロセス工程をポリマーアレイの製造において高解像度のフォトリソグラフィー技術に結びつける。
請求項(抜粋):
基板の表面上にポリマーのアレイを形成する方法であって: 感光性保護基で保護された官能基でコーティングされた第1の表面を有する基板、およびその上に配置された層を有する第2の表面を提供する工程であって、該層が1以上の屈折率適合化合物、光吸収化合物および反射防止化合物を含む、工程;および 該基板の、異なる選択された領域中でモノマーを連続的に活性化し、そしてカップリングして複数の異なるポリマー配列を、該基板の該表面上の異なる既知の位置に形成し、ここで該活性化工程が、活性化放射線を該基板の該第1の表面に向けることを含む、工程 を包含する、方法。
IPC (3件):
C12Q 1/68
, C07K 1/00
, C12N 15/09
FI (3件):
C12Q 1/68 A
, C07K 1/00
, C12N 15/00 A
引用特許:
前のページに戻る