特許

J-GLOBAL ID：200903084426307256

熱処理装置

発明者： 村山 博美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-050896
公開番号（公開出願番号）：特開2004-260061
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】熱処理時におけるチャンバー内の金属表面への酸化被膜付着を防止することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】チャンバー65の内壁面に沿ってライナー20が設置されている。ライナー20は、石英にて構成されており、側板63、64および底板62の全内壁面を覆うように有底筒形状に形成されている。ライナー20の外周面はホーニング処理によって粗面化されている。フラッシュランプ69から極めて強い閃光が照射されたときに、粗面化されたライナー20の外面によってその閃光が遮られるため、チャンバー65の金属表面がフラッシュランプ69からの閃光に曝されることが防止される。その結果、閃光照射に起因した金属の酸化が抑制され、チャンバー65内の金属表面への酸化被膜付着を防止することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に対して閃光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、 フラッシュランプを有する光源と、 前記光源の下方に設けられたチャンバーと、 前記チャンバー内にて基板を保持する保持手段と、 前記チャンバー内に設置され、前記光源から出射された光が前記チャンバー内側の金属表面に到達するのを遮る遮光部材と、 を備えることを特徴とする熱処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/26

FI (1件)：

H01L21/26 G

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-166219
  
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307139   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド