特許
J-GLOBAL ID：200903084452536425
光プローブおよびその製造方法ならびに光ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-265688
公開番号（公開出願番号）：特開2000-082234
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】 近接場光を発生する平面開口プローブにおいて、精度の向上を達成すると共に生産を容易にすることである。また、生産性が高く、性能が安定しており、高転送レートを実現可能な光ヘッドを提供することである。【解決手段】 Si(100)基板10の表面側から異方性エッチングすることにより、内側面がSi(111)面から構成される四角錐状の凹部32を形成する工程と、凹部32の内側面にSi酸化物層12を形成する工程と、Si(100)基板10を裏面側からエッチングすることにより、Si酸化物層12の尖端部をSi(100)基板10裏面から突出させる工程と、突出した尖端部の少なくとも一部をエッチングすることにより、微小開口35を形成する工程とを有する光プローブの製造方法。
請求項（抜粋）：
Si(100)基板を有し、このSi(100)基板に、内側面がSi(111)面から構成される四角錐台状の貫通孔が形成されており、この貫通孔の一方端を構成する微小開口付近に近接場光を発生する光プローブであって、前記貫通孔の内側面にSi酸化物層が存在する光プローブ。
IPC (3件)：
G11B 7/135
, G01N 13/14
, G11B 7/12
G11B 7/135 Z
, G01N 37/00 E
, G11B 7/12
5D119AA38
, 5D119AA43
, 5D119BA01
, 5D119BB04
, 5D119BB05
, 5D119CA06
, 5D119JA34
, 5D119JA35
, 5D119JA64
, 5D119MA06
, 5D119NA05
