特許
J-GLOBAL ID：200903084543742281

構成部材の洗浄方法

発明者：
玉橋 邦裕

玉橋 邦裕 について


出願人/特許権者：
リコープリンティングシステムズ株式会社

リコープリンティングシステムズ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-268123
公開番号（公開出願番号）：特開2008-089745
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】 高い洗浄能力を有するとともに、洗浄工程の簡素化が図れ、洗浄液(界面活性剤+純水)等の省エネ効果が高い構成部材の洗浄方法、および循環型社会における環境負荷の少ない簡易で洗浄力の優れた画像形成装置用構成部材の洗浄方法を提供する。【解決手段】 画像形成装置を構成する構成部材である感光体用基体、ヒートロール用基体若しくは帯電ローラ用基体などをナノバブルを含む水溶液で洗浄することを特徴とする。特に、ナノバブルを含む水溶液を噴霧状にして前記構成部材に付着して洗浄することを特徴とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
画像形成装置を構成する構成部材をナノバブルを含む水溶液で洗浄することを特徴とする構成部材の洗浄方法。
IPC (5件)：
G03G 5/00 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/02 ,  B08B 7/00 ,  G03G 5/10
FI (5件)：
G03G5/00 101 ,  B08B3/10 Z ,  B08B3/02 A ,  B08B7/00 ,  G03G5/10 B
Fターム (18件)：
2H068AA52 ,  2H068AA54 ,  2H068CA32 ,  2H068EA05 ,  3B116AA41 ,  3B116BB02 ,  3B116BB22 ,  3B116BB81 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05 ,  3B201AA41 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB81 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC21
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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