特許
J-GLOBAL ID：200903084551112726
混合樹脂組成物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210600
公開番号（公開出願番号）：特開2000-038486
出願日： 1995年06月20日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：
【要約】【目的】酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂成分として、異なる2種の置換基で各々置換されたポリヒドロキシスチレンの混合物を含有する混合樹脂組成物、及びそれを用いた高感度、高解像性及び高耐熱性である上に、引置き経時安定性に優れ、かつプロファイル形状の良好なレジストパターンを形成でき、放射線、特に紫外線、遠紫外線、KrF、ArFなどのエキシマレーザー、X線、及び電子線に良好に感応するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(イ)水酸基の10〜60モル%をtert-ブチルオキシ基としたポリヒドロキシスチレンと、(ロ)水酸基の10〜60モル%が一般式化1【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2はメチル基又はエチル基であり、R3は低級アルキル基である。)で表わされる残基で置換されたポリヒドロキシスチレンを含有する混合樹脂組成物、及びそれを用いたポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(イ)水酸基の10〜60モル%をtert-ブチルオキシ基としたポリヒドロキシスチレンと、(ロ)水酸基の10〜60モル%が一般式化1【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2はメチル基又はエチル基であり、R3は低級アルキル基である。)で表わされる残基で置換されたポリヒドロキシスチレンを含有することを特徴とする混合樹脂組成物。
IPC (6件)：
C08L 25/18
, C08K 5/23
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08L 25/18
, C08K 5/23
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
