特許
J-GLOBAL ID：200903079510347170

フォトレジストフィルム

発明者：
日 向 淳 悦

日 向 淳 悦 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-303563
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134400
出願日： 1993年11月08日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 感光性樹脂層と支持体フィルムの接着性が良好で、特に高密度プリント回路基板の製造効率を向上することができるフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】 少なくとも感光性樹脂層及び支持体フィルムよりなり、支持体フィルムの感光性樹脂層側の表面抵抗率が108〜1012Ωであるフォトレジストフィルム。
請求項（抜粋）：
少なくとも感光性樹脂層及び支持体フィルムよりなり、支持体フィルムの感光性樹脂層側の表面抵抗率が108〜1012Ωであることを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (3件)：
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 503 ,  H05K 3/06
引用特許：
審査官引用 (13件)
  • 特開昭61-041143
  • 感光性転写シート及びレジストパターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-213462   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 特開昭61-193148
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