特許

J-GLOBAL ID：200903084586145074

ケミカルメカニカルポリシング装置のキャリアヘッドのデザイン

発明者： スティーヴン エム. ツニガ ,  ステファン ジェイ. ブルメンクランツ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-322071
公開番号（公開出願番号）：特開平9-168968
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 ポリシングしようとする基板の表面全体に実質的に均一な圧力を与えるキャリアヘッド。【解決手段】 本発明のキャリアヘッドは、圧力チャンバとフローティングジンバルを用いている。このフローティングジンバルにより、キャリアベースが駆動シャフトに対して旋回することが可能となるが、このときジンバルを介して基板に下向きの力が作用することはない。その代わり、ローリングダイアフラムがキャリアベースをキャリアハウジングにシールして、チャンバを形成する。チャンバに圧力を与えることにより、基板の端から端まで均等な負荷を与えることが可能となる。保持リングには、膨張可能なブラダーにより、独立に負荷が与えられる。基板近くに配置される2本の水平ピンにより、トルクがキャリアハウジングからキャリアベースへ伝達される。これらピンは、ハウジングの中で垂直にスライドすることが可能であるが、横方向にはスライドしない。しかし、トルクピンを製造許容範囲に適合させるに十分な弾性が存在するため、両方のトルクピンは回転の負荷に耐えることができる。

請求項（抜粋）：

ケミカルメカニカルポリシング装置のためのキャリアヘッドであって、駆動シャフトに接続され、前記駆動シャフトによって第1の軸の周りに回転するハウジングと、基板をポリシングパッドに対して保持し、前記ハウジングに接続され前記第1の軸の周りに回転する、ベースと、前記ポリシングパッドに対して前記基板を押圧するように前記ベースを作用させる、負荷機構と、前記ハウジングを前記ベースに旋回可能な状態で接続して、前記基板と前記ポリシングパッドとの境界部の地点の周りに前記ベースが回転できるようになる、ジンバル機構とを備えるキャリアヘッド。

IPC (2件)：

B24B 37/04 ,  H01L 21/304 321

FI (2件)：

B24B 37/04 E ,  H01L 21/304 321 E

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 研磨装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-298977   出願人：三菱マテリアル株式会社