特許
J-GLOBAL ID：200903084594648280

投影露光装置、投影露光方法及びデバイスの製造方法

発明者：
山中 幸治

山中 幸治 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-103572
公開番号（公開出願番号）：特開2001-291652
出願日： 2000年04月05日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：
【要約】【課題】 複数の被露光基板上に複数のパターンを投影露光する時間の短縮化を可能にし、パターンの重ね精度やつなぎ合わせ精度を向上することを可能にする。【解決手段】 複数の原版11、12を一度に搭載可能な原版ステージ14と、投影レンズ15などからなる投影光学系とを具備し、原版ステージ14上に搭載された複数の原版11、12に対して各々位置検出(アライメント)を行うことを可能にし、原版ステージ14を移動させ、原版ステージ14上に搭載された複数の原版11、12のうち任意の一原版を、投影光学系の直上に配置させることを可能にした投影露光装置10を用いて投影露光を行う。
請求項（抜粋）：
所定のパターンが形成された原版を搭載可能な原版ステージと、該原版ステージ上に搭載された原版に形成されたパターンを、表面に所定の感光材が塗布された被露光基板上に投影露光するための投影光学系とを具備する投影露光装置であって、前記原版ステージが複数の原版を一度に搭載可能なものであるとともに、前記原版ステージ上に搭載された複数の原版に対して各々位置検出を行うことを可能にし、前記原版ステージを移動させ、前記原版ステージ上に搭載された複数の原版のうち任意の一原版を、前記投影光学系の直上に配置させることを可能にしたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (4件)：
G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 515 F
Fターム (7件)：
5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046CC09 ,  5F046CC14 ,  5F046DA06
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-140840   出願人：株式会社ニコン
  • 露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-142769   出願人：株式会社ニコン

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