特許

J-GLOBAL ID：200903084626583282

リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス

発明者： ヨハンネス コルネリス ドリーセン ,  ヘルマヌス マシアス ヨアンネス レネ ソエメルス ,  ミカエル ヨゼファ マシュース レンケンス ,  テオドルス ヒュベルトゥス ヨセフュス ビショップス ,  ヨハンネス ペトルス マルティヌス ベルナルドゥス フェルメウレン ,  アントニウス マリア リユケン
出願人/特許権者： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359396
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237449
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】 リソグラフィ投影装置に使う放射線の短波長化に伴い、投影ビーム経路を高真空に保つ必要が生じたが、真空室内の装置構成要素にユーティリティを供給する導管に真空汚染ガスを放出する難点があるので、この導管の柔軟性を損うことなく、導管を真空から隔離したリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】 真空室20内の可動構成要素W2Tへユーティリティを供給する導管24を、この構成要素と同じ自由度を有する多関節導管遮蔽体100で囲み、その遮蔽体内を排気手段VE2により真空室20より低真空度に排気することにより、この遮蔽体100を、可動構成要素の運動を阻害しないように気密度を低く作っても、汚染ガスの真空室へ漏出が防げ、且つ低コストにできる。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置(1)で:放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、IL);所望のパターンに従ってこの投影ビーム(PB)をパターン化するのに役立つパターニング手段(MA)を支持するための第1物体テーブル(MT);基板(W2)を保持するための第2物体テーブル(W2T);前記投影ビーム(PB)のための真空ビーム経路を生成するために第1ガス排気手段(VE)を備える真空室(20);前記パターン化したビームを前記基板(W2)の目標部分(C)上に投影するための投影システム(PL);および上記真空室(20)で少なくとも1自由度で動き得る構成要素にユーティリティを提供するための導管(24)を含むリソグラフィ装置に於いて、更に:上記真空室(20)の真空を前記導管を含む空間から遮蔽するための導管遮蔽体(100)で、前記構成要素の上記少なくとも1自由度の運動を許容するように構成および配置した遮蔽体、並びにこれらの導管を含む前記空間に真空をもたらすための第2ガス排気手段(VE2)を含むことを特徴とする装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 Z ,  H01L 21/30 541 L

Fターム (28件)：

5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031HA59 ,  5F031JA01 ,  5F031JA32 ,  5F031JA45 ,  5F031KA05 ,  5F031LA03 ,  5F031LA07 ,  5F031LA18 ,  5F031MA27 ,  5F031NA05 ,  5F031NA14 ,  5F031NA18 ,  5F031PA23 ,  5F046AA22 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CD01 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046DC14 ,  5F046GA07 ,  5F056EA12 ,  5F056EA14 ,  5F056EA16

引用特許：

審査官引用 (1件)

• サ-ボ制御、およびリソグラフィ投影装置におけるその適用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-000868   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ