特許
J-GLOBAL ID：200903084681221195

排ガス処理触媒の再生方法及びこの方法を使用した排ガス処理触媒

発明者：
尾林 良昭

尾林 良昭 について

, 
清澤 正志

清澤 正志 について


出願人/特許権者：
三菱重工業株式会社

三菱重工業株式会社 について


代理人 (4件)： 光石 俊郎 ,  光石 忠敬 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-175157
公開番号（公開出願番号）：特開2009-226388
出願日： 2008年07月04日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】排ガス処理性能の低下及び二酸化硫黄の酸化を抑制できる排ガス処理触媒の再生方法を提供する。【解決手段】表面に灰分が付着した排ガス処理触媒11の再生方法であって、排ガス処理触媒11の全重量に対して70〜95重量%の範囲で閾値サイズS(0.105〜1.0mmの範囲内の任意のある値)超の粗片12を生じさせるように排ガス処理触媒11を粗粉砕する粗粉砕工程S1と、排ガス処理触媒11の粗粉砕物を閾値サイズS超の粗片12と閾値サイズS以下の細粉13とに分離する分離工程S2と、分離された粗片12を平均粒径0.1mm以下の微粉体とするように微粉砕する微粉砕工程S3と、微粉体を他の原料と混練りして排ガス処理触媒に成型加工する混練工程S4及び成型工程S5と、成型された原型を乾燥して焼成処理する乾燥工程S6及び焼成工程S7とを行うことにより、再生された排ガス処理触媒14を得る。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
表面に灰分が付着した排ガス処理触媒の再生方法であって、 使用済みの前記排ガス処理触媒を粗粉砕する粗粉砕工程と、 粗粉砕された前記排ガス処理触媒を閾値サイズS超の粗片と当該閾値サイズS以下の細粉とに分離する分離工程と、 分離された前記粗片を微粉体とするように微粉砕する微粉砕工程と、 微粉砕された前記微粉体を原料として排ガス処理触媒に成型加工する成型工程と、 成型された上記排ガス処理触媒の原型を焼成処理する焼成工程と を行うことを特徴とする排ガス処理触媒の再生方法。 ただし、前記閾値サイズSは、0.105mm以上のある値である。
IPC (6件)：
B01J 38/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 38/00 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/96 ,  B01J 23/92
FI (6件)：
B01J38/02 ,  B01D53/36 K ,  B01J38/00 C ,  B01D53/36 102E ,  B01J23/92 A ,  B01D53/36 D
Fターム (35件)：
4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AB01 ,  4D048BA07X ,  4D048BA23X ,  4D048BA27X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4D048BD01 ,  4D048BD07 ,  4G169AA10 ,  4G169BA04B ,  4G169BB06B ,  4G169BC54B ,  4G169BC60B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA12 ,  4G169CA13 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02X ,  4G169EA02Y ,  4G169EA18 ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169FB30 ,  4G169FB31 ,  4G169FB66 ,  4G169FB67 ,  4G169FC08 ,  4G169GA01 ,  4G169GA18
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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