特許
J-GLOBAL ID：200903084700191111
ポジ型フオトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-002791
公開番号（公開出願番号）：特開平8-190195
出願日： 1995年01月11日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】 感度、解像度に優れるとともに、特に、性能の膜厚依存性が小さく、耐熱性に優れるポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及びベンゼン環を3つ以上、水酸基を4つ以上を有し、且つ1つのベンゼン環に有する水酸基が2つ以下であるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルであり、且つ高速液体クロマトグラフィーの全パターン面積に対して、4価以上のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルのトリエステル体成分のパターン面積が50%以上である感光性化合物を有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂及び感光性化合物からなるポジ型フォトレジスト組成物において、感光性化合物が、ベンゼン環を3つ以上、水酸基を4つ以上を有し、且つ1つのベンゼン環に有する水酸基が2つ以下であるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルであり、且つ254nmの紫外線を使用した検出器を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーの全パターン面積に対して、4価以上のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルのトリエステル体成分のパターン面積が50%以上であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。
IPC (2件)：
引用特許：
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