特許
J-GLOBAL ID：200903084722679622
X線測定方法及びX線装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-009385
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214164
出願日： 2001年01月17日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 X線装置において、試料の希望測定点をCCDカメラ等といった撮影装置の画面上で任意に指定、例えばマウスクリック等によって指定するだけで、その位置を測定点と決定できるようにする。【解決手段】 CCDカメラ10によって試料を撮影し、カメラ10による撮影画面31a上の座標軸とXYステージ7の平行移動面の座標軸との角度差を求め、試料の測定点Pの座標値を撮影画面31a上の座標値からXYステージ7の座標値に変換し、XYステージ7における座標値に従ってそのXYステージ7によって試料の測定点Pを撮影画面31a上におけるX線照射点Oに対応する位置へ移動させ、X線照射点Oに在る試料の部分にX線を照射してその試料から発生するX線をX線検出器によって検出する。
請求項（抜粋）：
試料撮影手段によって試料を撮影する試料撮影工程と、前記試料撮影手段による撮影画面上の座標軸と試料平行移動手段による平行移動面の座標軸との角度差を求める座標角度差検出工程と、前記試料の測定点の座標値を前記撮影画面上の座標値から前記平行移動面の座標値に変換する座標変換工程と、前記平行移動面上における座標値に従って前記試料平行移動手段によって前記試料の測定点を前記撮影画面上におけるX線照射点に対応する位置へ移動させる試料平行移動工程と、前記X線照射点に在る試料の部分にX線を照射して該試料から発生するX線を検出するX線測定工程とを有することを特徴とするX線測定方法。
IPC (3件)：
G01N 23/207
, G01N 23/20
, G01N 23/223
G01N 23/207
, G01N 23/20
, G01N 23/223
2G001AA01
, 2G001AA07
, 2G001BA04
, 2G001BA14
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001CA07
, 2G001DA09
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001HA12
, 2G001HA13
, 2G001JA08
, 2G001JA11
, 2G001PA11
, 2G001PA12
, 2G001SA02
出願人引用 (1件)
-
蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-225353
出願人：株式会社島津製作所
審査官引用 (1件)
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蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-225353
出願人：株式会社島津製作所
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