特許
J-GLOBAL ID:200903052188888238
蛍光X線分析装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
竹本 松司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-225353
公開番号(公開出願番号):特開2002-039972
出願日: 2000年07月26日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】 蛍光X線分析装置において良好な光学像及びマッピング像を得る。【解決手段】 試料の撮像する撮像手段を蛍光X線測定部の外部に設け、蛍光X線測定部の外部において試料の光学像を求めるものであり、試料からの蛍光X線によって試料のマッピング像を得る蛍光X線分析装置1において、蛍光X線測定部3の外部において試料を撮像する画像測定部2と、蛍光X線測定部3の内部及び画像測定部2において、各部2,3に対して試料の初期位置を定める初期化手段5とを備えた構成とする。
請求項(抜粋):
試料からの蛍光X線によって試料のマッピング像を得る蛍光X線分析装置において、蛍光X線測定部の外部において試料を撮像する画像測定部と、蛍光X線測定部の内部及び画像測定部において、各部に対して試料の初期位置を定める初期化手段を備え、蛍光X線測定部の内部及び画像測定部において、初期化手段により試料の初期位置を定めた後に光学像及びマッピング像の画像測定を行い、初期化された位置における光学像及びマッピング像の画像データを求めることを特徴とする蛍光X線分析装置。
Fターム (21件):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001DA09
, 2G001EA01
, 2G001FA06
, 2G001FA10
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001HA13
, 2G001JA04
, 2G001JA05
, 2G001JA06
, 2G001JA08
, 2G001JA13
, 2G001JA14
, 2G001KA01
, 2G001PA12
, 2G001PA14
, 2G001SA01
, 2G001SA04
引用特許:
審査官引用 (9件)
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X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-346077
出願人:株式会社堀場製作所
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試料処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-309065
出願人:株式会社日立製作所
-
特開昭53-088565
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