特許
J-GLOBAL ID:200903084757846319
リソグラフィ装置及びFPDチャックZ位置測定を利用したデバイス製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-137127
公開番号(公開出願番号):特開2006-337999
出願日: 2006年05月17日
公開日(公表日): 2006年12月14日
要約:
【課題】フィーチャをより効果的に整列させるためのシステム及び方法を提供すること。【解決手段】第1のフレームと第2のフレームとを備えたリソグラフィ装置であって、第1のフレーム及び第2のフレームは、互いに第1の方向に移動させることができる。第1のフレームは、第1の方向に配置された、関連する定規モニタ・センサによるモニタのための距離計を有する定規を備えている。第2のフレームは第2のセンサを備えており、第2のセンサは、定規を基準表面として使用して、第2のセンサと定規との間の第1の方向に直角の第2の方向の距離を測定するようになされている。【選択図】図5
請求項(抜粋):
第1のフレームと、
第2のフレームとを備えたリソグラフィ装置であって、
前記第1のフレーム及び前記第2のフレームを互いに第1の方向に移動させることができ、前記第1のフレームが、前記第1の方向に配置された、関連する定規モニタ・センサによるモニタのための距離計を有する定規を備え、
前記第2のフレームが第2のセンサを備え、前記第2のセンサが、前記定規を基準表面として使用して、前記第2のセンサと前記定規との間の前記第1の方向に直角の第2の方向の距離を測定するようになされたリソグラフィ装置。
IPC (3件):
G03F 9/00
, G03F 9/02
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F9/00 Z
, G03F9/02 Z
, H01L21/30 529
Fターム (20件):
2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097CA17
, 2H097GA04
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA20
, 2H097KA29
, 2H097KA38
, 2H097LA11
, 5F046BA07
, 5F046CB02
, 5F046DA05
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC07
, 5F046EA02
, 5F046EA03
, 5F046EB01
, 5F046FA10
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開昭63-277904
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リトグラフ装置、および、デバイスの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-273338
出願人:エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ, エイエスエムエルホールディングナムローゼフエンノートシャップ
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特開平3-089523
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-230501
出願人:株式会社ニコン
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レーザ描画装置の描画方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-314594
出願人:旭光学工業株式会社
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