特許
J-GLOBAL ID:200903084757948430
型押し具、これを製造する方法、加工物の表面を構築する方法、及び陽極酸化表面層の使用
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大貫 和保 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-580058
公開番号(公開出願番号):特表2003-531962
出願日: 2001年04月25日
公開日(公表日): 2003年10月28日
要約:
【要約】型押し具、その製造方法、加工物の表面を構築する方法及び陽極酸化表面層の使用が提案される。簡単で、費用効率の高いナノメータレンジの型押しは、鋳型として使用される陽極酸化によって形成された中空チャンバを有する表面層によて可能となる。
請求項(抜粋):
構築された型押し面(2)を有する型押し具(1)において、 前記型押し面(2)は、陽極酸化によって生じた開口中空チャンバ(4)を有する陽極酸化表面層又は被覆層(6)によって形成されることを特徴とする型押し具。
IPC (6件):
C25D 11/04 302
, C25D 11/04
, C25D 11/16 301
, C25D 11/26 302
, C25D 11/32
, C25D 11/34 301
FI (6件):
C25D 11/04 302
, C25D 11/04 E
, C25D 11/16 301
, C25D 11/26 302
, C25D 11/32
, C25D 11/34 301
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (2件)
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改訂4版金属便覧, 19821220, 改訂4版, 第1312〜1313頁
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表面技術便覧, 19980227, 初版, 第503頁
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