特許
J-GLOBAL ID：200903084785191999
レーザ照射方法及びレーザ照射装置並びにレーザアニール方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高橋 敬四郎
, 来山 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-284917
公開番号（公開出願番号）：特開2006-100567
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】 合成されるパルスレーザビームの位相を制御することなく、複数のパルスレーザビームが同一光軸上を伝搬するように合成し、合成されたパルスレーザビームを、各パルスの偏光方向が揃った直線偏光にすることができるレーザ照射方法を提供する。【解決手段】 レーザ照射方法は、(a)直線偏光である第1のパルスレーザビームと、偏波面が該第1のパルスレーザビームの偏波面と直交し、かつ該第1のパルスレーザビームの偏波面に沿って伝搬する直線偏光である第2のパルスレーザビームとを、該第1及び第2のパルスレーザビームが同一の光軸上を伝搬し、かつ該光軸上で互いに重ならないように合成する工程と、(b)前記工程(a)において前記第1及び第2のパルスレーザビームが合成されたレーザビームの各パルスの偏光方向を、互いに平行になるように揃える工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(a)直線偏光である第1のパルスレーザビームと、偏波面が該第1のパルスレーザビームの偏波面と直交し、かつ該第1のパルスレーザビームの偏波面に沿って伝搬する直線偏光である第2のパルスレーザビームとを、該第1及び第2のパルスレーザビームが同一の光軸上を伝搬し、かつ該光軸上で互いに時間的に重ならないように合成する工程と、
(b)前記工程(a)において前記第1及び第2のパルスレーザビームが合成されたレーザビームの各パルスの偏光方向を、互いに平行になるように揃える工程と
を有するレーザ照射方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F172NN05
, 5F172NR03
, 5F172NR30
, 5F172ZZ01
