特許
J-GLOBAL ID：200903084841197865

電子部品製造に用いるのに適する超クリーンフルオロエラストマー

発明者：
グルータエルト,ワーナー,エム.,エー.

グルータエルト,ワーナー,エム.,エー. について

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ヒンツァー,クラウス

ヒンツァー,クラウス について

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ハーシュ,バーンハード

ハーシュ,バーンハード について

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カスパー,ハラルド

カスパー,ハラルド について

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コルブ,ロバート,イー.

コルブ,ロバート,イー. について

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ロアー,ガーノット

ロアー,ガーノット について

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シュウェルトフィガー,ワーナー

シュウェルトフィガー,ワーナー について


出願人/特許権者：
スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー について


代理人 (5件)： 小林 浩 ,  片山 英二 ,  小林 純子 ,  古橋 伸茂 ,  大森 規雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-524943
公開番号（公開出願番号）：特表2005-534751
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
パーフルオロエラストマーを調製するための硬化性フルオロエラストマー組成物。組成物には、(1)過酸化物硬化反応に関与することができるハロゲンおよび/またはニトリル基から選択された1つ以上の硬化部位を有するパーフルオロポリマーと、(2)有機過酸化物および/または前記ニトリル基を通じてパーフルオロポリマーを硬化することができる化合物と、(3)任意にポリ不飽和架橋助剤と、が含まれる。組成物中のパーフルオロポリマーは、本質的にイオン性末端基を有さず、組成物中の金属陽イオンの総量は、10μg/gパーフルオロポリマー以下である。このパーフルオロエラストマーは、金属陽イオンの量が十分に少ない組成物を硬化し、フルオロエラストマーを半導体産業で用いるのに適するようにすることで得ることができる。
請求項（抜粋）：
過酸化物硬化反応に関与することができるハロゲンおよび/またはニトリル基から選択される1つ以上の硬化部位を有するパーフルオロポリマーと、 有機過酸化物および/または前記ニトリル基を通じてパーフルオロポリマーを硬化することができる化合物と、 任意にポリ不飽和架橋助剤と、 を含む硬化性フルオロエラストマー組成物であって、 前記パーフルオロポリマーが、本質的にイオン性末端基を有さず、前記組成物中の金属陽イオンの総量が、10μg/gパーフルオロポリマー以下であることを特徴とする前記硬化性フルオロエラストマー組成物。
IPC (4件)：
C08L27/12 ,  C08F214/18 ,  C08K5/14 ,  C08K5/34
FI (4件)：
C08L27/12 ,  C08F214/18 ,  C08K5/14 ,  C08K5/34
Fターム (50件)：
4J002BD121 ,  4J002BD151 ,  4J002DF037 ,  4J002DG047 ,  4J002EG047 ,  4J002EK036 ,  4J002EK046 ,  4J002EK056 ,  4J002EK086 ,  4J002EP018 ,  4J002EP028 ,  4J002ER027 ,  4J002EU187 ,  4J002EU188 ,  4J002EU198 ,  4J002EW068 ,  4J002EX018 ,  4J002FD146 ,  4J002FD147 ,  4J002FD158 ,  4J002GQ00 ,  4J100AC26P ,  4J100AC31P ,  4J100AC37R ,  4J100AE38Q ,  4J100AE38R ,  4J100AE39Q ,  4J100AE75S ,  4J100AG67S ,  4J100AG70S ,  4J100AM23S ,  4J100AM55S ,  4J100AN05S ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA40R ,  4J100BA67S ,  4J100BB03R ,  4J100BB05R ,  4J100BB11Q ,  4J100BB12Q ,  4J100BB12R ,  4J100BB13Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC43S ,  4J100BC75S ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA44 ,  4J100JA46
引用特許：
審査官引用 (4件)
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