ガスバリア基材およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-121005
公開番号（公開出願番号）：特開2004-322489
出願日： 2003年04月25日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】ガスバリア性を有するガスバリア基材を提供する。【解決手段】ガスバリア基材1は、無機材料と樹脂材料とを含み且つ無機材料の含有率が厚さ方向において変化している複合傾斜層3と、複合傾斜層3に接合している無機材料からなるガスバリア層4と、を含む。複合傾斜層3は、ガスバリア層4との接合面に近い領域において無機材料の含有率が大である。複合傾斜層3は、樹脂層2と接合することとしても良く、樹脂層2との接合面に近い領域において無機材料の含有率が小である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

無機材料と樹脂材料とを含み且つ前記樹脂材料中の前記無機材料の含有率が厚さ方向において変化している複合傾斜層と、前記複合傾斜層に接合し且つ無機材料からなるガスバリア性を有するガスバリア層と、を含み、前記複合傾斜層は前記ガスバリア層との接合面に近い領域において無機材料の含有率が大であることを特徴とするガスバリア基材。

IPC (3件)：

B32B9/00 , H05B33/02 , H05B33/14

FI (3件)：

B32B9/00 A , H05B33/02 , H05B33/14 A

Fターム (31件)：

3K007AB08 , 3K007AB12 , 3K007AB13 , 3K007AB15 , 3K007CA00 , 3K007CA01 , 3K007CA02 , 3K007CA05 , 3K007CA06 , 3K007DB03 , 4F100AA00B , 4F100AA20A , 4F100AA33B , 4F100AG00B , 4F100AK01B , 4F100AK01C , 4F100AT00C , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10C , 4F100BA44B , 4F100EH36B , 4F100EH46B , 4F100EJ82B , 4F100GB41 , 4F100JD02 , 4F100JD02A , 4F100JK10 , 4F100JK17B , 4F100JL09 , 4F100JL11

引用特許：

審査官引用 (5件)

有機-無機複合積層構造体
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-120386 出願人：宇部日東化成株式会社
有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-291125 出願人：パイオニア株式会社
ポリマー/セラミック複合電子基板
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-193284 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

全件表示

前のページに戻る