特許

J-GLOBAL ID：200903084897404723

処理粉体およびこれを含有する化粧料

発明者： 福井 寛 ,  尾島 理佳 ,  舘 和男 ,  金丸 哲也 ,  須原 常夫 ,  長屋 京子 ,  草苅 健
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-096634
公開番号（公開出願番号）：特開平10-279826
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】 撥水性が高く、分散性に極めて優れた処理粉体を得、これを用いて、油分を実質的に全く含まない粉末化粧料を安全かつ簡便に提供する。【解決手段】 粉体表面をSi-H基を有するシリコーン化合物で被覆し、かつ、該シリコーン化合物の未反応のSi-H基部分に、該Si-H基と反応することのできる化合物を100μmol/g以上の密度で付加してなる処理粉体、および該処理粉体を含有してなる化粧料。

請求項（抜粋）：

粉体表面をSi-H基を有するシリコーン化合物で被覆し、かつ、該シリコーン化合物の未反応のSi-H基部分に、該Si-H基と反応することのできる化合物を100μmol/g以上の密度で付加してなる、処理粉体。

IPC (4件)：

C09B 67/08 ,  A61K 7/02 ,  C09C 3/12 ,  C09K 3/00

FI (4件)：

C09B 67/08 C ,  A61K 7/02 P ,  C09C 3/12 ,  C09K 3/00 H

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 処理粉体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-249988   出願人：株式会社資生堂