特許
J-GLOBAL ID:200903084911927815

クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 畑 泰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-270464
公開番号(公開出願番号):特開2001-093790
出願日: 1999年09月24日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】 ウェハに対する汚染の可能性を低減し、半導体装置の品質の向上と歩留りの向上が可能なクリーンルームを提供するものである。【解決手段】 所定の半導体装置生産設備2、インターフェースボックス4、インターフェースボックスオープナー5等が内部に配置されている内室部10と内室部10を取り囲み、内室部10との間に空気循環路12を形成する外室部20とからなるクリーンルーム1であって、内室部10に設けられたファンフィルターユニット7を介して、内室部10内の空気が、空気循環路12を介して循環する様に構成されているクリーンルーム1に於いて、内室部10と空気循環路12とを循環している第1の空気流13とは独立に、クリーンルーム1外部より、清浄な第2の空気流18を当該インターフェースボックスオープナー5の近傍に直接供給する様に構成されているクリーンルーム1。
請求項(抜粋):
所定の半導体装置生産設備、複数のウェハを内蔵して移動可能に構成されたインターフェースボックス、当該インターフェースボックスを固定的に載置して、当該インターフェースボックス内から当該ウェハを当該生産設備内に搬送するインターフェースボックスオープナー等が内部に配置されている内室部と当該内室部を取り囲み、当該内室部との間に空気循環路を形成する様に構成された外室とから構成されたクリーンルームであって、当該内室部に設けられたファンフィルターユニットを介して、当該内室部内の空気が、当該空気循環路を介して循環する様に構成されているクリーンルームに於いて、当該内室部と当該空気循環路とを循環している第1の空気流とは独立に、当該クリーンルーム外部より、清浄な第2の空気流を当該インターフェースボックスオープナーの近傍に直接供給する様に構成されている事を特徴とするクリーンルーム。
IPC (2件):
H01L 21/02 ,  F24F 7/06
FI (2件):
H01L 21/02 D ,  F24F 7/06 C
Fターム (6件):
3L058BD06 ,  3L058BE02 ,  3L058BF01 ,  3L058BF06 ,  3L058BG01 ,  3L058BG04
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • クリーンルーム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-249529   出願人:三菱電機株式会社
  • 基板の表面処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-046338   出願人:大日本スクリーン製造株式会社

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