特許
J-GLOBAL ID：200903084942338249

成膜方法、光学素子、半導体素子および電子機器、電気光学装置の製造方法、カラーフィルターの製造方法

発明者：
足助 慎太郎

足助 慎太郎 について

, 
宮川 拓也

宮川 拓也 について

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十河 智彦

十河 智彦 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-056967
公開番号（公開出願番号）：特開2004-158815
出願日： 2003年03月04日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】所望のパターン領域全体に液状材料を塗布して成膜しようするときに製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を可能とする成膜方法、光学素子、半導体素子および電子機器を提供する。【解決手段】基板10の被処理面に隔壁11を形成することでパターニング領域を仕切り、隔壁11の内側領域に液状材料を充填する工程を有して所望の膜をそのパターニング領域に設ける成膜方法において、液状材料を充填する工程の前に、隔壁11の内側領域に所望の溶媒からなる皮膜12を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の被処理面上に親液領域と撥液領域とを形成する工程と、前記親液領域上に所定の溶媒からなる皮膜を形成する工程と、前記皮膜上に液状材料を充填する工程とを有し、 前記液状材料中の成分を少なくとも含む所定の膜を前記親液領域上に形成することを特徴とする成膜方法。
IPC (6件)：
H01L21/368 ,  G02B5/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (5件)：
H01L21/368 L ,  G02B5/20 101 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L29/78 612D
Fターム (45件)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB08 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5F053AA03 ,  5F053AA06 ,  5F053AA50 ,  5F053DD20 ,  5F053FF02 ,  5F053LL01 ,  5F053RR04 ,  5F053RR11 ,  5F110AA16 ,  5F110BB02 ,  5F110CC02 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD13 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG25 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ13 ,  5F110HL07 ,  5F110NN73 ,  5F110PP01 ,  5F110PP03 ,  5F110PP05 ,  5F110PP06 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ11
引用特許：
審査官引用 (2件)

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