特許
J-GLOBAL ID:200903084952809525

有害ガス除去装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-292407
公開番号(公開出願番号):特開平9-131514
出願日: 1995年11月10日
公開日(公表日): 1997年05月20日
要約:
【要約】【課題】設置場所の制約を殆ど受けることなく、地上に僅かな設置スペースを確保するだけで、有害ガス除去装置1基当たりの除染能力の増大化を図る。【解決手段】太陽光の照射を受けて活性化する光触媒と大気との接触反応を利用し、環境大気中に含まれているNOX ,SOX などの汚染物質を酸化して光触媒に吸着捕捉させる有害ガス除去装置において、二酸化チタンを主成分とする光触媒シート3bを基板3a基板の両面に被着した光触媒パネル3を、樹木の枝葉と同じように、地上に立てた支柱1の枝状支持アーム2に多数枚吊り下げ支持し、さらに光触媒パネルの洗浄手段として、支柱の頂部に洗浄水を光触媒シート群へ向けて撒布する散水ノズル4を設ける。そして、日中は太陽光の照射の下で汚染された大気を浄化し、定期的に洗浄水を撒布して光触媒に吸着された汚染物質の酸化生成物を洗い流して光触媒の除染機能を回復させる。
請求項(抜粋):
太陽光の照射を受けて活性化する光触媒と大気との接触反応を利用し、環境大気中に含まれているNOX ,SOX などの汚染物質を酸化して光触媒に吸着捕捉させる有害ガス除去装置であり、二酸化チタンを主成分とする光触媒をシート状に成形して基板に被着した光触媒パネルを、支柱の周囲に多数枚分散して取付けたことを特徴とする有害ガス除去装置。
IPC (8件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/96 ,  B01J 21/06 ZAB ,  B01J 35/02 ,  B01J 35/02 311 ,  B08B 3/02
FI (7件):
B01D 53/36 ZAB J ,  B01J 21/06 ZAB A ,  B01J 35/02 J ,  B01J 35/02 311 B ,  B08B 3/02 F ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 102 E
引用特許:
審査官引用 (4件)
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