特許
J-GLOBAL ID:200903085004995806

光触媒膜及びその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-252884
公開番号(公開出願番号):特開平11-092176
出願日: 1997年09月02日
公開日(公表日): 1999年04月06日
要約:
【要約】【解決手段】 酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中で金属ターゲットを用いてリアクティブスパッタリングを行うことによって得られる金属酸化物膜表面に白金、ニッケル、クロム、コバルト、錫、ニオブ、タンタルなどの金属イオンをドーピングしてなることを特徴とする光触媒膜。【効果】 本発明によれば、高い触媒活性を有する光触媒膜を作製することができる。
請求項(抜粋):
酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中で金属ターゲットを用いてリアクティブスパッタリングを行うことによって得られる金属酸化物膜表面に金属イオンをドーピングしてなることを特徴とする光触媒膜。
IPC (5件):
C03C 17/245 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/48
FI (6件):
C03C 17/245 A ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 35/02 Z ,  C23C 14/34 N ,  C23C 14/48 Z
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 光触媒
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-146721   出願人:株式会社ブリヂストン
  • 特開昭59-074279

前のページに戻る