特許
J-GLOBAL ID：200903085035399063
光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-307466
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143703
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：
【要約】【課題】 光ビームを用いて情報の記録および消去を行う光ディスクなどの光メディアに用いられる保護膜を形成するための硫化亜鉛-二酸化ケイ素焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 純度:99.999重量%以上の高純度二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、残りが純度:99.999重量%以上の高純度硫化亜鉛からなり、相対密度が90%以上有する焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、さらに、酸化アルミニウムを10〜1000ppm含有する。
請求項（抜粋）：
純度:99.999重量%以上の高純度二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、残りが純度:99.999重量%以上の高純度硫化亜鉛からなり、相対密度が90%以上有する焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、さらに、酸化アルミニウムを10〜1000ppm含有することを特徴とする光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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