特許
J-GLOBAL ID:200903085048711716
ガス浸炭方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 彰司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-026144
公開番号(公開出願番号):特開平8-199331
出願日: 1995年01月20日
公開日(公表日): 1996年08月06日
要約:
【要約】【目的】 処理時間の大幅な短縮を図り、省コスト、経済的で、従来と同等あるいはそれ以上の品質の製品を提供うる。【構成】 浸炭処理温度の750〜950°Cに昇温予熱した被処理材Wを、直接炭化水素ガスと酸化性ガスが供給され1000〜1100°Cに加熱された浸炭雰囲気中で加熱処理すること、さらに続いて被処理材Wを600°C以下に強制冷却し、さらにその後被処理材Wを750〜850°Cに再加熱した後に焼入れを行う。
請求項(抜粋):
浸炭処理温度の750〜950°Cに昇温予熱した被処理材を、直接炭化水素ガスと酸化性ガスが供給され1000〜1100°Cに加熱された浸炭雰囲気中で加熱処理することを特徴とするガス浸炭方法。
引用特許: