特許
J-GLOBAL ID:200903085058879380
金属表面処理用組成物、金属表面処理方法、及び金属材料
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
正林 真之
, 高岡 亮一
, 林 一好
, 加藤 清志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-051988
公開番号(公開出願番号):特開2007-262577
出願日: 2007年03月01日
公開日(公表日): 2007年10月11日
要約:
【課題】素地隠蔽性、塗膜密着性、及び耐食性を得ることができる化成皮膜を形成可能な金属表面処理用組成物、金属表面処理方法、及び金属材料を提供すること。【解決手段】金属表面処理用組成物は、ジルコニウム化合物及び/又はチタン化合物と、オルガノシランの重縮合物であり且つ1分子中に少なくとも2つのアミノ基を有するオルガノシロキサンと、を含有し、下記数式(1)で表される前記オルガノシロキサンの重縮合率は、40%以上であり、金属表面処理用組成物中におけるジルコニウム化合物及び/又はチタン化合物の含有量、並びに金属表面処理用組成物中におけるオルガノシロキサンの含有量が、所定の含有量であり、オルガノシロキサン中に含まれるケイ素元素に対する、ジルコニウム化合物及び/又はチタン化合物中に含まれるジルコニウム元素及び/又はチタン元素の質量比が所定の質量比である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属の表面処理に用いられる金属表面処理用組成物であって、
ジルコニウム化合物及び/又はチタン化合物と、オルガノシランの重縮合物であり且つ1分子中に少なくとも2つのアミノ基を有するオルガノシロキサンと、を含有し、
下記数式(1)で表される前記オルガノシロキサンの重縮合率は、40%以上であり、
前記金属表面処理用組成物中における前記ジルコニウム化合物及び/又はチタン化合物の含有量は、金属元素換算で10ppm以上10000ppm以下であり、
前記金属表面処理用組成物中における前記オルガノシロキサンの含有量は、ケイ素元素換算で1ppm以上2000ppm以下であり、
前記オルガノシロキサン中に含まれるケイ素元素に対する、前記ジルコニウム化合物及び/又はチタン化合物中に含まれるジルコニウム元素及び/又はチタン元素の質量比は、0.5以上500以下である金属表面処理用組成物。
IPC (16件):
C23C 22/00
, C23C 22/48
, C23C 22/56
, C23C 22/34
, C23C 22/40
, C25D 9/10
, C25D 9/12
, C25D 9/08
, C25D 13/00
, C25D 13/20
, C23C 22/50
, C23C 22/53
, C23C 22/57
, C23C 22/83
, B32B 15/08
, C23C 22/07
FI (17件):
C23C22/00 Z
, C23C22/48
, C23C22/56
, C23C22/34
, C23C22/40
, C25D9/10
, C25D9/12
, C25D9/08
, C25D13/00 L
, C25D13/20 A
, C25D13/20 C
, C23C22/50
, C23C22/53
, C23C22/57
, C23C22/83
, B32B15/08 Q
, C23C22/07
Fターム (51件):
4F100AA02A
, 4F100AB02A
, 4F100AB02B
, 4F100AB03
, 4F100AB09A
, 4F100AB09B
, 4F100AB10A
, 4F100AB10B
, 4F100AB12A
, 4F100AB14A
, 4F100AB15A
, 4F100AB16A
, 4F100AB17A
, 4F100AB18A
, 4F100AB18B
, 4F100AB19A
, 4F100AB21A
, 4F100AB24A
, 4F100AK01A
, 4F100AK52A
, 4F100BA02
, 4F100CA18A
, 4F100CC00
, 4F100EJ12A
, 4F100EJ64
, 4F100EJ64A
, 4F100JB02
, 4F100JB09A
, 4F100YY00A
, 4K026AA02
, 4K026AA09
, 4K026AA11
, 4K026AA22
, 4K026BB07
, 4K026BB10
, 4K026CA13
, 4K026CA18
, 4K026CA26
, 4K026CA28
, 4K026CA29
, 4K026CA30
, 4K026CA31
, 4K026CA32
, 4K026CA33
, 4K026CA34
, 4K026CA35
, 4K026CA38
, 4K026CA39
, 4K026DA03
, 4K026EA08
, 4K026EB02
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (11件)
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