特許
J-GLOBAL ID：200903085097362654
ガス吸着下における陽電子消滅法を用いた細孔サイズの評価方法とその評価装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
福田 賢三
, 福田 伸一
, 福田 武通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-034417
公開番号（公開出願番号）：特開2004-245655
出願日： 2003年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】測定試料の材質、あるいは、それに吸着されたガスの種類によらない測定値が得られるナノメートル領域の細孔サイズの評価方法とその評価装置を、提案する。【解決手段】ガスを吸着させた測定試料陽電子消滅法を用いて細孔のサイズを評価する方法を提案しおり、被測定物に吸着された原子あるいは分子を蒸散させ、前記被測定物にあらかじめ決められたガス体を吸着せしめ、その被測定物に陽電子を照射し、その被測定物内に留まった陽電子の寿命を測定する。これを細孔のサイズに換算するか、より正確には、この際、ガス体の吸着量を変えて、陽電子の寿命の前記吸着量への依存性を得、この結果から被測定物内の細孔サイズを見積もる。また、このような働きをするそれぞれの手段により、測定装置を構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被測定物に吸着された原子あるいは分子を蒸散させるステップと、前記被測定物にあらかじめ決められたガス体を吸着せしめるステップと、その被測定物に陽電子を照射するステップと、その被測定物内に留まった陽電子の寿命を測定するステップと、陽電子の寿命からその測定物内の細孔サイズを見積もるステップとを備えることを特徴とするガス吸着下における陽電子消滅法を用いた細孔サイズの評価方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2G001AA03
, 2G001BA01
, 2G001CA02
, 2G001KA20
, 2G001LA20
, 2G001PA07
